沿革

History

2001年8月29日
埼玉県川口市に株式会社アルネアラボラトリを設立
2001年11月
資本金4000万円に増資
2001年12月
資本金1億6000万円に増資
2002年3月
経済産業省の地域新規産業創造技術開発費補助金(情報通信技術開発事業)において、「可変分散補償デバイスの開発・実用化」が採択されました。
2002年4月
東京大学先端科学技術研究センターの菊池和朗教授が取締役に就任
2003年3月
独立行政法人産業技術総合研究所と共同プレ ス発表
「世界初 カーボンナノチューブを用いて超短時間パルスレーザーの発振に成功」
2004年9月
資本金3億2,055万円に増資
2005年1月
独立行政法人新エネルギー・産業技術総合開発機構(NEDO)の産業技術実用化開発費助成事業において、「CNT超小型高繰返フェムト秒レーザによ る3次元計測装置の開発」が採択されました。
2005年8月
東京都世田谷区三宿に本社を移転
目黒区駒場の東京大学先端科学技術研究センター内にR&Dセンター開設
2007年6月
資本金3億5,550万円に増資
2007年7月
品質マネジメントシステム / ISO9001を取得
2008年2月
日本電信電話株式会社マイクロシステムインテグレーション研究所と共 同プレス発表
「無線機器の近傍電界測定用電界センサの商品化」
2008年7月
独立行政法人科学技術振興機構(JST)の産学共同シーズイノベーション化事業「顕在化ステージ」平成20年度(第1回)において、「超高速アブレーション微細加工用の超小型高強度ピコ秒パルスレー ザーの開発」が採択されました。
2008年10月
資本金4億1,305万円に増資
2009年1月
台湾オフィスを開設
2009年9月
独立行政法人新エネルギー・産業技術総合開発機構(NEDO)の研究開発型ベンチャー技術開発助成事業において、「電磁波発生媒体の近傍界における高精度電界センシング装置の開発」が採択されました。
2010年3月
マレーシアに現地法人を設立 Alnair Photonics Sdn. Bhd
2010年4月
東京都品川区西五反田に本社及びR&Dセンターを集約
2011年4月
2011年8月
独立行政法人新エネルギー・産業技術総合開発機構(NEDO)の産業技術実用化開発助成事業において、「超高機能半導体レーザ光源の開発」が採択されました。
2011年9月
独立行政法人情報通信研究機構の平成23年度委託研究開発において、「デジタル位相光制御による低消費電力高速コヒーレント伝送技術の研究開発」を受託いたしました。
株式会社アルネアラボラトリ (幹事)、国立大学法人東北大学、沖電気工業株式会社
2011年10月
品川区の新製品・新技術開発支援助成事業において、採択されました。
2012年2月
独立行政法人科学技術振興機構(JST)の研究成果最適展開支援プログラム(A-STEP)において、「シリコンフォトニクス技術を利用した超小型マトリクス光スイッチのモジュール化」が採択されました。
2012年7月
中国の武漢に中国オフィスを開設
2014年4月
アメリカのカリフォルニアに営業オフィスを開設
2015年4月
2015年5月
2019年7月
代表取締役社長に呉 志松が就任
2024年9月

社名を【株式会社アルネア】に変更

東京都港区港南に本社を移転